Les systèmes mesurent généralement 60 pouces de hauteur, 55 pouces de largeur et 32 pouces de profondeur, et présentent les caractéristiques suivantes :

• Chambre de dépôt ayant un diamètre de 12 à 14 pouces et une hauteur d’environ 10 à 14 pouces.
• Station de pompage turbo-moléculaire avec une vitesse nominale de 450 L/s ou plus. Pression de base allant du bas 10-6 Torr au moyen 10-7 Torr assurant une chambre propre sans composants supplémentaires.
• Ajout de diverses sources de plasma continues ou pulsées, telles que ICP (Inductively Coupled Plasma) et ECR (Electron Cyclotron Resonance).
• Plusieurs générateurs RF à semi-conducteurs de 450 W programmables avec leurs circuits d’adaptation automatique internes peuvent être inclus. Ces générateurs sont contrôlés par ordinateur.
• Supports de substrat refroidis à l’eau pour une utilisation dans des applications en 2D.
• Possibilité d’inclusion de supports de substrat chauffés.
• Polarisation du substrat à une tension continue ou pulsée dans une plage de 5 à 20 kV.
• Incorporation de jusqu’à quatre (4) lignes de gaz de processus et inclusion d’une ligne de mise à l’atmosphère automatisée. Pour permettre l’incorporation de lignes de gaz additionnelles, des entrées de gaz supplémentaires et de l’espace sur le panneau des gaz peuvent être fournis.

Tous les systèmes incluent la possibilité d’automatiser les processus en utilisant des recettes intégrées dans notre logiciel de contrôle PLASMICON. De plus, tous les systèmes ont une option d’intégration de la spectroscopie optique pour la surveillance et le contrôle des processus.

Un système de contrôle avancé est également inclus, permettant l’automatisation complète du processus de dépôt. Grâce à notre système d’acquisition de données et d’un écran tactile convivial de 24 pouces, la surveillance des données en temps réel peut se faire très facilement.

Élevez vos capacités de traitement de surface avec les systèmes de format standard de Plasmionique, où l’innovation rencontre la polyvalence.