- Sources de plasma / ions / matières neutres
Format standard
Les sources de plasma / ions / matières neutres de format standard de Plasmionique sont…
Les implanteurs d’ions basés sur le plasma sont une alternative économique et polyvalente pour les applications d’ingénierie de surface, ainsi que pour le dopage à faible profondeur dans les applications de nanotechnologie et de photonique. Le processus d’implantation d’ions immergé dans le plasma est un traitement de surface conforme et permet le dépôt sur des structures présentant une topographie en 3D.
Les implanteurs d’ions basés sur le plasma ont démontré leur capacité à minimiser la contamination lors de l’implantation de radio-isotopes.
Une variété de techniques d’excitation du plasma sont proposées, en fonction de l’application requise. Les systèmes sont entièrement contrôlés par ordinateur et comprennent un système intégré d’acquisition de données pour le suivi en temps réel des paramètres de processus, ainsi qu’un enregistrement des données.
Ce produit est disponible dans les formats suivants:
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