Les systèmes de dépôt par pulvérisation de Plasmionique sont extrêmement polyvalents et sont équipés des cathodes de pulvérisation exclusives de Plasmionique Inc. Ils sont conçus pour une efficacité élevée d’utilisation de la cible et sont disponibles dans des configurations magnétiques équilibrées et déséquilibrées, sous forme circulaire ou rectangulaire.
Les systèmes de dépôt par pulvérisation magnétron de format standard de Plasmionique sont conçus pour une flexibilité inégalée et de riches fonctionnalités. Ce format permet d’accueillir une vaste gamme de sources, de processus et de fonctionnalités, offrant à vos applications une adaptabilité maximale.
Les systèmes mesurent généralement 60 pouces de hauteur, 55 pouces de largeur et 32 pouces de profondeur, et possèdent les caractéristiques suivantes :
- Chambre de dépôt ayant un diamètre de 12 à 16 pouces et une hauteur d’environ 24 pouces.
- Système de pompage avec une vitesse nominale de 450 L/s ou plus. Pression de base du bas 10⁻⁶ Torr au moyen 10⁻⁷ Torr assurant une chambre propre sans composants supplémentaires.
- Les options d’alimentation incluent : multiples alimentations DC, DC/Pulsed-DC (1 kW) et générateurs RF (300 W – 600 W) avec leur adaptateur d’impédance automatique. Alimentations contrôlées par ordinateur.
- Inclusion de magnétrons refroidis par eau de différentes tailles allant de 2 pouces à 4 pouces.
- Un minimum d’une microbalance à cristal de quartz utilisée pour la mesure de l’épaisseur et le contrôle du taux de dépôt.
- Porte-substrats rotatifs avec option de chauffage jusqu’à 800 °C et possibilité d’ajout de capacité de polarisation. Tous les circuits de chauffage sont régulés par une boucle PID entièrement configurable avec auto-réglage des paramètres PID, rampe et capacités de limitation de sortie. En option, un contrôle automatisé du mouvement axial peut être ajouté.
- Inclusion de substrats jusqu’à 6 pouces de diamètre.
- Incorporation de jusqu’à quatre (4) lignes de gaz de processus et inclusion d’une ligne de mise à l’atmosphère automatisée. Pour permettre l’incorporation de lignes de gaz additionnelles, des entrées de gaz supplémentaires et de l’espace sur le panneau des gaz peuvent être fournis.
Tous les systèmes incluent la possibilité d’automatiser les processus en utilisant des recettes intégrées dans notre logiciel de contrôle PLASMICON. De plus, tous les systèmes ont une option d’intégration de la spectroscopie optique pour la surveillance et le contrôle des processus.
Un système de contrôle avancé est également inclus, permettant l’automatisation complète du processus de dépôt. Grâce à notre système d’acquisition de données et d’un écran tactile convivial de 24 pouces, la surveillance des données en temps réel peut se faire très facilement.
Élevez vos capacités de traitement de surface avec les systèmes de format standard de Plasmionique, où l’innovation rencontre la polyvalence.
